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高野 勝昌; 佐藤 隆博; 石井 保行; 神谷 富裕; 大久保 猛; 杉本 雅樹; 西川 宏之*; 関 修平*
no journal, ,
JAEA-TIARAでは、プロトンビームを利用した微細加工技術の開発に取り組んでいる。本研究では、SU-8フォトレジスト膜に対して入射エネルギー(飛程)の異なるプロトンビームを順次走査(描画)し、イオン照射によるSU-8フォトレジストの硬化反応を深さ方向で制御した加工方法について検討した。その結果、照射量を0.4510ions/cmに調整して、入射エネルギーが1MeVと3MeVのプロトンビーム描画を順次重ねて行うと、梁の長さが550m、梁と基板との間が30mの橋脚構造を作製できることがわかった。
石井 保行; 佐藤 隆博; 高野 勝昌; 大久保 猛; 神谷 富裕; 小嶋 拓治
no journal, ,
MeV領域の集束プロトンビームの使用により、マイクロメートルからナノメートルオーダーの分解能を持つ高アスペクト比の微細加工(Proton Beam Writing: PBW)を行うことができる。原子力機構と芝浦工業大学とは共同研究でこのPBW技術の開発を約4年前から進めており、この間PBW技術の有効性を示すため、荷電粒子に感受性を持つレジスト材料の微細加工にも取り組んでいる。本研究会において原子力機構TIARAにおける、三台のMeV領域の集束イオンビーム形成装置の紹介を行うとともに、PBWでおもに使用されている軽イオンマイクロビーム形成装置に関して加工分解、すなわちビーム径の大きさ,PBWを行う際の手順等に関する発表を行う。また、最近の集束イオンビーム技術として、サイクロトロン加速からの数100MeV級重イオンビームを用いたイオンマイクロビームの形成とこのマイクロビームを使用した微細加工の可能性、及びTIARAで開発を進めている小型のMeV領域集束イオンビーム形成装置の設計に関する進捗の報告も行う。